济南全自动等离子清洗机 东莞市恒芯半导体设备供应

等离子清洗机的作用原理，主要是通过等离子体作用于材料表面使其产生一系列的物理、化学变化，利用其中所包含的活性粒子和高能射线，与表面有机污染物分子发生反应、碰撞形成小分子挥发性物质，从表面移除，实现清洁效果。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等体子体轰被清洗产品面．以达到清洗目的，济南全自动等离子清洗机。水滴测试仪是目前等离子清洗效果评估较为常见、业界较为认可的检测方法。测试数据准确，济南全自动等离子清洗机、操作简捷、重复性和稳定性高，济南全自动等离子清洗机。容易采用数控技术，自动化程度高。济南全自动等离子清洗机

等离子清洗机物理反应：主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。沭阳离子清洗机等离子清洗机的等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素、光子等。

等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。等离子清洗机的清洗分类：反应类型分类：等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。

等离子清洗机对难清洗部位的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似甚至更好；使用等离子清洗机，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点；等离子清洗机需要控制的真空度约为100Pa，这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高，加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺；使用等离子清洗机，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生；等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可以使用等离子体来处理。等离子清洗机常见的有两种喷头，一种是直喷头，还有一种是旋转喷头。

等离子清洗机的清洗效果取决于其等离子体的密度和电子温度两个方面，如密度越高清洗速率越快、电子温度越高清洗效果越好。因此，放电气压的选择对低压等离子体清洗工艺至关重要。放电功率：放电功率增大，可以增加等离子体的密度和活性粒子能量，因而提高清洗效果。例如，氧气等离子体的密度受放电功率的影响较大。暴露时间：待清洗材料在等离子体中的暴露时间对其表面清洗效果及等离子体工作效率有很大影响。暴露时间越长清洗效果相对越好，但工作效率降低。并且，过长时间的清洗可能会对材料表面产生损伤。等离子清洗机需要控制的真空度约为100Pa，这种清洗条件很容易达到。沭阳离子清洗机

可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。济南全自动等离子清洗机

等离子清洗机处理效果好、效率高，适合大批量生产加工。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果。济南全自动等离子清洗机

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